Schlagwort: EUV-Lithographie

Dort unten ist viel Platz 1959 schuf der Nobelpreisträger Richard Feynman mit seinem Vortrag „There’s Plenty of Room at the Bottom“ (Dort unten ist viel Platz | Original Mitschrift) die Grundlage für die Nanotechnologie – eine Vision, die Technologie auf atomarer Ebene beherrschen wollte. Diese zeitlose Relevanz der Miniaturisierung hat mich bereits 2019 beschäftigt. Mein… Continue Reading Der unendliche Raum „Dort unten“: Wie Feynman’s Vision und High-NA EUV das Mooresche Gesetz fortschreiben